无锡超纯水设备|半导体行业超纯水设备

超纯水设备是采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理等方法，将水中的导电介质几乎完全去除，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水处理设备。

工作原理：

1. 水进入纯化系统，主要部分流入树脂，膜内部，而另一部分沿模板外侧流动，以洗去透出膜外的离子。

2. 树脂截留水中的溶存离子。

3. 被截留的离子在电极作用下，阴离子向正极方向运动，阳离子向负极方向运动。

4. 阳离子透过阳离子膜，排出树脂，膜之外。

5. 阴离子透过阴离子膜，排出树脂，膜之外。

6. 浓缩了的离子从废水流路中排出。

7. 去离子水从树脂，膜内流出。

设备特点

1: 整体化程度高 , 易于扩展 , 增加膜数量即可增加处理量。

2: 自动化程度高 , 遇故障立即自停 , 具有自动保护功能。

3: 膜组件为复合膜卷制而成 , 表现出更高的溶质分离率和透过速率。

4: 能耗低 , 水利用率高 , 运行成本低。

5: 结构合理 , 占地面积少。

6: 先进的膜保护系统 , 在设备关机 , 淡化水可自动将膜面污染物冲洗干净 , 延长膜寿命。

7 系统无易损部件 , 无须大量维修 , 运行长期有效。

8: 设备设计有膜清洗系统用阻垢系统。

工艺流程

医药行业制备超水的工艺大致分成以下几种：

1、原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透 设备→中间水箱→中间水泵→离子交换器→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→微孔过滤器→用水点

2、原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→第一级反渗透 →PH调节→中间水箱→第二级反渗透(反渗透膜表面带正电荷)→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→ 微孔过滤器→用水点

3、原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透机→中间水箱→中间水泵→EDI系统→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→微孔过滤器→用水点

主要用途

1、超纯材料和超纯试剂的生产和清洗。

2、电子产品的生产和清洗。

3、电池产品的生产。

4、半导体产品的生产和清洗。

5、电路板的生产和清洗。

6、其他高科技精细产品的生产。

行业标准

超纯水水质分为五个行业标准，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质。

制取要求：

新兴的光电材料生产、加工、清洗；LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB线路板、电路板、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。

无锡超纯水设备|半导体行业超纯水设备